装置EQUIPMENTS
粉体プロセス
ビーズミル
数十〜数百μmの微小なメディアを用いてセラミックス粉体を粉砕できる装置。
湿式ジェットミル
メディアを用いることなく、ナノ粒子の凝集体を短時間で解砕できる装置。
機械的粒子複合化
乾式で機械的なせん断力を粒子間に作用させることにより、ナノ複合粒子の作製や表面改質が可能な装置。
雰囲気加圧焼成炉
高温でセラミックスを焼成する装置。雰囲気：真空から10気圧加圧（ArあるいはN2）、最高温度：2200℃、5t加圧までのホットプレス可能。レーザー変位計を用いた焼結収縮挙動のその場測定装置付設。。
ボールミル
セラミックス原料粉体を混合するための最も一般的な装置。
遊星ボールミル
粉体とメディア、分散媒が入った容器を自転および公転させることで、1Gよりも大きな加速度で粉砕できる装置。
スプレードライヤー
セラミックスの乾式成形において必要な造粒を行う装置。得られる顆粒のサイズは約10μm。大気中、窒素中などでの処理が可能。
高周波加熱炉
カーボンヒーターを誘導加熱することで、高温焼成可能な電気炉。最高温度＞2300℃。昇温速度100℃/min可能。
管状炉
各種雰囲気（空気、窒素、アルゴン、アンモニアなど）で焼成できる電気炉。最高温度1450℃。
カンタルスーパー炉
カンタルスーパーヒーターを用いた電気炉。大気中。最高温度1700℃。
回転式オーブン
回転機構のついたオーブン。水熱下でゼオライトなどの合成が可能
ドクターブレード成形機
ドクターブレードを用いた湿式成形により、薄板状の成形体を作製できる装置。
平面研削盤
ダイヤモンドホイールを用いてセラミックスを加工する装置。
研磨盤
ダイヤモンドスラリーを用いてセラミックス表面を研磨加工する装置。
ダイヤモンドカッター
ダイヤモンドブレードを用いてセラミックスを切断加工する装置。
評価・解析装置
走査型電子顕微鏡
セラミックス表面の形態を電子線を用いて観察する装置。加速電圧〜30kV。エネルギー分散型X線分光装置（EDS）付設。
走査型プローブ顕微鏡
微小なプローブを用いて、材料とプローブ間に作用する力を計測することで形態を観察する装置。形態の他に、磁区構造（MFM）、粘弾性（VE-AFM）、圧電性（PFM）、非線形誘電率（SNDM）、摩擦力（FFM、LM-FFM）などの表面物性を評価可能。
光学顕微鏡
可視光にて観察できる顕微鏡。反射、透過、偏光、微分干渉などでの観察可能。
近赤外線顕微鏡
近赤外（900〜1700nm）の波長で観察可能な顕微鏡。屈折率が高い物質でも薄片透光法や浸液透光法による内部構造観察が可能。
X線回折装置
結晶構造の解析が可能な装置。2kV、50mA。水平ゴニオメーター。
蛍光X線分析装置
X線を物質に照射した時に放出される特性X線（蛍光X線）により元素分析を行う装置。
Arイオンビーム加工装置
Arイオンビームを試料に照射して、試料表面を研磨する装置。機械的研磨よりもダメージが極めて小さい。
水銀ポロシメーター
水銀を多孔体中に圧入したときの圧力と圧入体積の関係から気孔径分布を測定する装置。
ガス吸着細孔径分布測定装置
N2などのガスを吸着させたときの吸着等温線から細孔径分布を測定する装置。ゼオライトや活性炭などに用いる。
比表面積測定装置
BET理論に基づいて、１点法により比表面積（単位重量あたりの表面積）を求める装置。
トライボメーター
ボールオンディスク法により、摩擦係数と摩耗率を測定する装置。
絶縁抵抗測定装置
10〜1000Vの範囲で試料に直流電圧を印加して、体積抵抗率および表面抵抗率を測定する装置。高温での測定も可能。
粘度計
コーンローターを用いて、液体の粘度を測定する装置。
ゼータ電位測定装置
電極間に電圧を印加したときの帯電粒子の移動速度を測定する、いわゆる電気泳動法によりゼータ電位を測定する装置。
FT-IR
物質の赤外線の吸収スペクトルを測定する装置。
蛍光分光光度計
蛍光を有する物質の発光および励起光スペクトルを測定する装置。
熱重量分析装置
温度上昇時の物質の重量変化および熱の出入りを測定する装置。
熱膨張計
温度上昇時および冷却時の物質の寸法変化を測定する装置。焼結収縮挙動のその場測定にも使用される。
材料試験機
材料の機械的特性（強度、弾性率、疲労、破壊靱性など）の評価を行う装置。ロードセル50N、5000N、50000N付設。
疲労試験機
材料にくり返し応力を印加できる装置。
転動疲労試験機
スラスト型軸受と同様に、ボールをディスク上で荷重を印加しながら転がすことで、材料の転動疲労特性を評価できる装置。
ビッカース硬度計
材料のビッカース硬さ、ヌープ硬さ、IF法による破壊靱性測定が可能な装置。
熱伝導率測定装置
レーザーフラッシュ法により材料の熱伝導率を測定できる装置。
プラズマエッチャー
CF4ガスなどを用いてSi系材料のプラズマ処理ができる装置。Si3N4のプラズマエッチングにも使用される。
多々見・飯島研究室
〒240-8501
横浜市保土ヶ谷区常盤台79-7
TEL 045-339-3959